EUV

11月2日消息，美国半导体初创企业Substrate近期抛出重磅消息，宣称已研发出基于X光的新型曝光技术，其解析度能与荷兰ASML最先进的EUV光刻机匹敌，而后者单台造价就超过4亿美元。 Substrate还明确将在美国自建晶圆代工厂，直接瞄准台积电在AI芯片代工领域的主导地位，意图与AS...

中国国产极紫外（EUV）光刻机的发展远非遥不可及。 目前正在华为东莞工厂进行测试的最新系统采用了激光诱导放电等离子体（LDP）技术，代表了一种可能具有颠覆性的极紫外光产生方法。 该系统计划于 2025 年第三季度进行试生产，并于 2026 年实现量产，这有可能使中国打破 ASML 在先进光...