尼康拟于 2028 财年推出新款浸没式 ArF 光刻机,与 ASML 主导生态兼容
2 月 19 日消息,尼康在其 2025 财年第三财季(截至 2024 年 12 月 31 日)财报的演示文稿中透露,该企业正同合作伙伴一道开发一款兼容 ASML 主导的浸没式 ArF(也称 ArFi)光刻生态的新型光刻机产品,目标 2028 财年(2027 年 4 月~202...
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2 月 19 日消息,尼康在其 2025 财年第三财季(截至 2024 年 12 月 31 日)财报的演示文稿中透露,该企业正同合作伙伴一道开发一款兼容 ASML 主导的浸没式 ArF(也称 ArFi)光刻生态的新型光刻机产品,目标 2028 财年(2027 年 4 月~202...
2月1日消息,据国外媒体报道称,ASML已经确认,即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200,相比上代来说,表现更加强悍,当然不会卖给中国厂商。 按照官方的说法,EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款,其将拥有更高的晶圆吞吐量(EXE:5000为每...
1月24日消息,据国内媒体报道称,荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示,在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上,荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。 “美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了相当大的压力,预计特朗普政府将延续这一策略。“我认为,我们自行决定实施什...
12月20日消息,光刻机作为重大技术装备领域的国之重器,不仅是衡量一个国家综合国力与科技水平的关键指标,还直接关系到国家安全和科技自主可控的未来。然而,其研制之路却异常艰难,充满了重重挑战。 近期,工业和信息化部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,特别将氟化...
12月19日消息,据报道,俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。 据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可能需...
10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美元)已经在英特尔安装完成了。 作为目前全球最先进,也是最贵的光刻机,ASML宝石,High NA EUV光刻机不太可能像最初的EUV光刻机那样出现延迟。 “我们只能期待它相对快速...
日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注。 日前,工信部印发的《首台(套)重大...
最近的一个现象让我细思极恐。先是前天我刷视频号的时候,微信推送给我一个讲光刻机的短视频。该视频号主是个大妈,夫妻俩加起来超过110岁,视频号内容主要是开着问界M9各地自驾游。一个年过半百退休大妈,突然拿着工信部的一个极简的目录来讲光刻机,讲得那么激动,自称热泪盈眶。 为什么视频号会给我推送...
9月9日消息,据国外媒体报道称,俄罗斯近日绕过了制裁,为本国存在了35年的光刻机续命。 报道中提到,尽管欧洲制裁禁止向俄罗斯实体出售任何高科技机器,但俄罗斯公司仍在2022年和2023年成功获得了ASML 1990年代芯片制造机器的备件。 俄罗斯进口商已经想方设法为ASML的PAS 550...
8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大...